新型光电功能材料制备仪器设备
目前世界上较先进的商用MOCVD材料生长系统，可用于制备以GaN为代表的第三代半导体材料。
由本实验室自主设计研制，自主拥有完全知识产权的唯一具有多达10路进源气路的MOCVD系统。
用于硅基异质结构材料(Si1-x-yGexCy /Si)、SiC/Si异质结构材料的生长，进行人工剪裁材料的结构及光电性质研究
高质量ZnO系材料的外延制备。
CCS-MOCVD材料生长系统
目前世界上较先进的商用MOCVD材料生长系统，可用于制备以GaN为代表的第三代半导体材料。
国内第一台实用化的新型多源多片氢化物气相外延生长系统。主要用于高质量氮化镓衬底的生长。
材料物性表征分析仪器设备
扫描探针显微镜（SPM）（美国Diginal公司）
荧光光谱仪(美国EG&G公司)
紫外－可见－近红外光度计(日本Hitachi公司)
锁相放大器（三台，美国HP公司）
磁电阻测量系统
多功能光学测试系统
其他表征仪器
材料物性表征亦可利用我校现代分析中心和固体微结构物理、配位化学等国家重点实验室的有关分析仪器，包括核磁共振谱仪，热分析-质谱联用仪、高分辨FT IR光谱仪，X-射线衍射仪，高分辨X-射线衍射仪，多功能微机电化学分析仪，聚集离子束显微镜；场发射透射电镜；环境扫描电子显微镜，透射电子显微镜，高分辨电子显微镜等。
器件加工和测试分析仪器设备
半导体器件平面工艺流水线
半导体参数综合测试系统（美国HP公司）
反应离子刻蚀机
电子束暴光系统，介质膜淀积系统
南京大学微加工中心正由本实验室主任张荣教授等负责建设。
新型光电功能材料和器件设计设备
计算机信息图象处理系统
微电子器件CAD系统
中型计算机系统
